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玻璃基板用等離子體設備處理非但不改變表面活性還起到清潔效果：
當玻璃基板處于等離子體中時，由于表層受到等離子體中荷能粒（電）子的轟擊，基板表面吸附的條件氣體、水蒸汽和污垢首先被轟炸，使表層潔凈活化，表層得到改善。沉積時，薄膜原子或大分子更好地滲透基板，增加范德華力。其次，玻璃基板表層受到荷能粒（電）子的沖擊，從微觀上看看，基板表層會建立許多凹坑和孔隙。在沉積過程中，薄膜原子或大分子進入這些凹坑，產(chǎn)生機械鎖緊力。此外，基板表層的粗化增加了實際表面積，有利于增加范德華力、擴散附著力和靜電力，從而增加了整體附著力。
玻璃用等離子體設備處理后，基板表層潔凈活化，改善表層，不僅有效清除吸附在玻璃基板上的條件氣體大分子、水蒸汽和污垢，在基板表層建立潔凈活化的微粗燥表層，而且避免二次污染。
用等離子體設備處理工程技術主要利用各種表面涂層和表面改性技術，賦予基體材料所不具備的特殊機械、物理或化學性能。如高硬度、高耐磨性、耐腐蝕性、耐高溫氧化性、抗輻射性等。此外，用等離子體設備表面工程技術是一種涉及機械、電子、化工、物料、真空、冶金、表層物理、固體物理、等離子體物理、電化學等學科的邊緣技術。它融入了這些學科的理論和最新的技術成果中。
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