CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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    等離子工藝參數(shù)在復(fù)合材料領(lǐng)域受哪些方面影響


          在等離子體清洗工藝當(dāng)中,影響清洗效率的參數(shù)主要有以下幾個方面:
    (1)放電氣壓:對于低壓等離子體,放電氣壓增加,等離子體密度越高,電子溫度隨之降低。而等離子體的清洗效果取決于其密度和電子溫度兩個方面,如密度越
    高清洗速率越快、電子溫度越高清洗效果越好。因此,放電氣壓的選擇對低壓等離子體清洗工藝至關(guān)重要。
    (2)氣體種類:待處理物件的基材及其表面污染物具有多樣性,而不同氣體放電所產(chǎn)生的等離子體清洗速度和清洗效果又相差甚遠(yuǎn)。因此應(yīng)該有針對性地選擇等離子體的工作氣體,如可選用氧氣等離子體去除物體表面的的油脂污垢,選用氫氬混合氣體等離子體去除氧化層。
    (3)放電功率:放電功率增大,可以增加等離子體的密度和活性粒子能量,因而提高清洗效果。例如,氧氣等離子體的密度受放電功率的影響較大。
    (4)暴露時間:待清洗材料在等離子體中的暴露時間對其表面清洗效果及等離子體工作效率有很大影響。暴露時間越長清洗效果相對越好,但工作效率降低。并且,過長時間的清洗可能會對材料表面產(chǎn)生損傷。

    等離子


    (5)傳動速度:對于常壓等離子體清洗工藝,處理大物件時會涉及連續(xù)傳動問題。因此待清洗物件與電極的相對移動速度越慢,處理效果越好,但速度過慢一方面影響工作效率,另一方面也可能造成處理時間過長產(chǎn)生材料表面損傷。
    (6)其他:等離子體清洗工藝中的氣體分配、氣體流量、電極設(shè)置等參數(shù)也會影響清洗效果。因此需要根據(jù)實(shí)際情況和清洗要求設(shè)定具體的、適合的工藝參數(shù)。等離子體清洗技術(shù)在復(fù)合材料領(lǐng)域中的應(yīng)用,不論是用于改善復(fù)合材料的界面性能,提高液體成型工藝中樹脂對纖維表面的潤濕性能,還是用于清除制件表面污染層以提高涂裝性能,或是改善多個制件之間的膠接性能,其可靠性大多是依賴于低溫等離子體對材料表面物理以及化學(xué)性能的改善作用,去除弱界面層,或是增加粗糙度、提高化學(xué)活性,進(jìn)而增強(qiáng)兩個表面之間的浸潤與粘結(jié)性能。
           隨著低溫等離子體技術(shù)的日益成熟,以及清洗設(shè)備尤其是常壓條件下在線連續(xù)等離子體裝置的開發(fā),清洗成本不斷降低,清洗效率可進(jìn)一步提高;等離子體清洗技術(shù)本身具有便于處理各種材料、綠色環(huán)保等優(yōu)點(diǎn)。因此,在精細(xì)化生產(chǎn)意識逐漸提高的同時,先進(jìn)的清洗技術(shù)在復(fù)合材料領(lǐng)域中的應(yīng)用必然會更加普及。


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