20年專注等離子清洗機研發(fā)生產(chǎn)廠家
136 3268 3462
誠峰表層等離子體表面處理儀選用低溫plasma工藝對AP粉體表層做好改性：
高氯酸銨作為一種新型氧化劑，常用于復合固體推進劑、改性雙基推進劑和硝酸酯熱塑性樹脂聚醚多元醇(NEPE)推進劑，有著氧含量高、焓大、熱穩(wěn)定性高等優(yōu)點。目前，為了提高推進劑的燃燒速度，超細高氯酸銨已廣泛應用于推進劑中。
但隨著粒度的減小，比表面積的增大，超細AP粉有著很強的吸水性，容易聚集成塊狀，嚴重影響推進劑的使用成效。在硝化棉(NC)上覆覆AP后，超細AP吸水性能下降，有效解決了超細AP起塊問題。挑選了對超細粉AP做好復合改性，使改性材料有著不錯的防起塊成效，在工業(yè)上有著應用前景，誠峰表層CRF等離子體表面處理儀法也有了它的發(fā)揮空間。
采用聚苯乙烯(PS)和12氟庚基三叔丁基氯硅烷(FAS)遮蓋高氯酸銨，得到AP/PS/FAS復合膜，減少了AP的吸水性。這類辦法的相似之處是對AP做好覆蓋改性，但用過多，有可能使推進劑容量減少，從而影響到其使用，因此研究新型AP表面處理辦法顯得尤為重要。
CRF誠峰表層等離子體表面處理儀低溫plasma工藝可以將活性基團引入粉體表層或形成保護膜，從而提高粉體的分散性、相容性和力學性能。該工藝有著工藝簡單、效率高、連續(xù)性強、無溶劑、環(huán)境污染小等優(yōu)點。
CRF plasma 等離子清洗機 版權所有 ?2025
