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20年專注等離子清洗機研發生產廠家
電暈放電和介質阻擋放電誠峰plasma設備的區別哪些：一、誠峰plasma電暈放電? ? ? ?氣介質在不均衡電場中的部分自持放電。它是最常見的的汽體放電方式。在回轉半徑小的前沿電極的附近，考慮到部...
發布時間:2022-03-10
等離子體表面處理儀crf搭配催化劑對反應物有哪些作用？一、催化劑對反應物有活化作用 催化劑通過吸附作用活化反應物，促使反應物轉化。催化作用下CH4活化及轉化機理研究顯示吸附于催化劑...
發布時間:2022-03-08
crf誠峰智造plasma清洗機的工作方式: 現如今，普遍采用的清洗方法主要包括濕清洗和千法清洗。濕清洗有很大的限制性，從對環境的危害來看。充分考慮到材料的損耗和未來發展趨勢，干式清洗明顯優...
發布時間:2022-03-04
CRF電漿清洗機應用下對負載型鑭系氧化物催化劑CO2氧化CH4制C2： 負載型鑭系氧化物催化劑具有良好的OCM反應活性。在催化活化CO2氧化CH4制C2烴反應中，La203/ZnO給出了高達97%的C2烴選擇性...
發布時間:2022-03-02
誠峰plasma清洗塑料件表面清洗： 低溫誠峰plasma清洗設備的表層改性是低溫等離子與塑料材質橡膠產品表層相互作用的環節，如材料表層處理（塑料材質表層處理、金屬制品、鋁表面處理、印刷...
發布時間:2022-02-28
