CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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    相對于傳統(tǒng)的有機(jī)溶液濕式清潔,等離子設(shè)備具備幾大優(yōu)勢

           相對于傳統(tǒng)的有機(jī)溶液濕式清潔,誠峰智造解說式等離子設(shè)備具備幾大優(yōu)勢,讓您對等離子設(shè)備更加了解。
    等離子體是氣體分子在真空、放電等特殊情況下形成的物質(zhì)。等離子清洗、腐蝕等離子形成的裝置是將兩個電極放入密封容器中形成電磁場,通過真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度。隨著氣體越來越薄,分子問距和分子或離子之間的白色運(yùn)動距離也越來越長。在磁場的作用下,碰撞形成等離子體,并產(chǎn)生光輝。等離子設(shè)備在電磁場中運(yùn)動,并轟擊加工處理物體表面,從而達(dá)到表面處理、清潔、腐蝕的效果。
    相對于傳統(tǒng)的選用有機(jī)溶液的濕式清潔,等離子設(shè)備具備以下優(yōu)點(diǎn):

    等離子設(shè)備

    1.清潔對象經(jīng)等離子清洗后即干,無需再次干燥加工處理即可送到下一道工序。可提高全部環(huán)節(jié)環(huán)節(jié)的加工處理效率;
    2.選用無線電波范圍的高頻輻射不同于直射光線,例如激光。由于方向性不好,等離子體可以深入物體的微孔和凹陷,實(shí)現(xiàn)清潔工作,因此不需要考慮清潔物體的形狀;
    3.等離子設(shè)備需要保持一般在100帕的真空度,這種清潔狀態(tài)更能實(shí)現(xiàn)。所以該裝置的設(shè)備成本不高,再加上清潔過程不需要使用價(jià)格較高的有機(jī)溶液,使整體成本低于傳統(tǒng)的濕式清潔工藝;
    4.等離子設(shè)備能夠避免有機(jī)溶液對身體的危害,另外也杜絕了濕式清潔時容易清潔對象的問題。
    5.避免出現(xiàn)使用ODS有危害有機(jī)溶液,如工氯乙烷,這種清理后就不用行成有害物質(zhì),清理方法屬于環(huán)保綠色清理方法。這種的環(huán)境問題在全球?qū)Νh(huán)境的高度關(guān)注中愈加顯示其重要性!
    6.等離子設(shè)備不分加工和處理對象,可對各種材料進(jìn)行加工處理,不論是金屬材料、半導(dǎo)體、氧化物或聚丙烯、PVC、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等高分子材料;
    7.選擇等離子清洗,避免出現(xiàn)清洗劑的物流運(yùn)輸、儲存和釋放,使生產(chǎn)場所更能保持清潔;
    8.在實(shí)現(xiàn)清潔去污的另外,還可改進(jìn)材質(zhì)無身的衣面性能。例如改善表面的潤濕性、良好膜的粘附性等,這在很多應(yīng)用中非常重要。
    9.利用等離子設(shè)備清洗,可大大提高清潔效率。在短短幾分鐘內(nèi)就可以實(shí)現(xiàn)全部清潔環(huán)節(jié),具備產(chǎn)出率高的特征;
          綜上9點(diǎn)等離子設(shè)備在工業(yè)的應(yīng)用越來越廣泛,國內(nèi)外用戶對等離子設(shè)備的要求也越來越高。高質(zhì)量的產(chǎn)品還需要專業(yè)的技術(shù)支持和維護(hù)。

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